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1100度雙溫區直空/氣氛快速升降溫RTP爐(紅外燈管加熱 升溫速度:50度/S)
關鍵字:
紅外加熱,快速升降溫,快速退火爐,RTP,快速熱蒸鍍
型號:
OTF-1200X-IR-IISL
產品概述:
OTF-1200X-IR-IISL是一款雙溫區紅外加熱快速熱處理爐,其爐管直徑為4英寸。此款設備可使樣品最大升溫速率達到50℃/S,此款設備不僅可對樣品進行快速熱處理,還可采用HPCVD方法來生長二維晶體(一個加熱區用來盛放固體蒸發原料,另一個加熱區用于沉積樣品)。
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技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
設備名稱

1100度雙溫區直空/氣氛快速升降溫RTP爐(紅外燈管加熱 升溫速度:50度/S) (2019.12.24—科晶實驗室審核)

產品提示

1、多種配件可選提示   2、科晶實驗室邀請提示   3、配件妥善保管提示

主要特點

· 采用短波紅外燈管對樣品加熱,可達到快速加熱的效果。

· 雙溫區快速升溫,最高達50℃/s。

· 超大管徑φ110mm。

· 最高溫度可達1100℃。

· 雙層殼體結構,并帶有風冷系統,可有效降低殼體表面溫度。

· 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。

· 法蘭上安裝有滑軌可直接推拉操作。

· 開門斷電,提高實驗安全性。

· 可選裝波紋管推拉式伸縮架,樣品架可在內部伸縮式波紋管中滑動,實現在真空或受控氣氛下實現快速加熱或冷卻。

基本參數

·最大1100oC,持續時間<10分鐘

·最大1000oC,持續<20分鐘(注意:如果運行時間更長,爐殼將>100oC,必須使用風扇從外部冷卻爐殼)

·最大800oC,持續時間<120分鐘

·連續溫度最高600oC

· 法蘭:KF-25D型不銹鋼高真空法蘭                          

· 加熱元件:16根紅外燈管(每根1.5KW)    

· 最大功率:24KW      

· 設備電源:AC380V/50HZ 單相 

· 循環水流量:0.5 m3/h



更多參數請聯系科晶銷售部

真空法蘭

· 不銹鋼真空法蘭安裝在爐管的兩端,便于組裝,法蘭上有1/4英寸直徑的通孔,用于插入K型熱電偶。

· 法蘭端提供多種接頭可選,具體請咨詢銷售。


圖片12.png    

溫控系統

· 采用PID方式調節溫度,可設置50段升降溫程序

· 溫控儀表中帶有過熱和斷偶保護

· 儀表控溫精度: +/- 1°C

· 熱電偶型號:K型

開門斷電

· 為保證使用安全,該電爐為開門斷電設計


  

質保

· 一年保修,終身技術支持。
· 特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。

             2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。


點擊查看售后服務承諾書。


科晶實驗室對OTF-1200X-4-RTP設備的追溫溫差和恒溫精度做了一系列實驗研究,得出以下經驗以供參考:


1)升溫速率越慢,控溫精度越高,升溫速率越快,追溫溫差越大。

升溫速率

追溫溫差

控溫精度恒溫精度

1℃/s

< 5℃

+-0.5℃

2℃/s

< 10℃

+-1℃

50℃/s

溫差較大,但30s內恒溫

+-1℃



2)570℃以下降溫不可控。

降溫速率

可控溫度情況(參考)

40℃/min

570℃以上,可控制降溫

60℃/min

600℃以上,可控制降溫且誤差<5℃,600℃-570℃,誤差<10℃





實驗名稱:RTP快速升溫爐的升溫速度與最終溫度間的可調關系

實驗目的:1、升溫速度能否保持恒定;

2、恒溫波動是否小于1℃;

3、實現目的:保持一定的升溫速度,待到達恒溫溫度時,升溫速度減緩的溫度點越接近恒溫溫度越好。

適用領域:鐵磁性材料的制備

實驗結果:

100℃/min,到400℃

斜率基本恒定;沖溫<1℃;升速減緩點在398℃

100-400.png

100℃/min,到700℃

斜率基本恒定;沖溫<1℃;升速減緩點在698℃

100-700.png

400℃/min,到400℃

斜率基本恒定;沖溫≤1℃;升速減緩點在395℃

400-400.png

400℃/min,到700℃

斜率基本恒定;沖溫≤1℃;升速減緩點在395℃

400-700.png

300℃/min,到700℃

斜率基本恒定;沖溫≤1℃;升速減緩點在795℃

300-700.png

600℃/min,到700℃

斜率基本恒定;沖溫≤2℃;升速減緩點在790℃

600-700.png

以上數據總結,存在調試差異,具體詳情請聯系合肥科晶實驗室

應用技術提示

· 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥。

· 進入爐管的氣體流量需小于200sccm,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。

· 該設備的長時間使用溫度為600℃。

· 降溫時請利用程序降溫,不建議直接按“STOP”鍵降溫,設備溫度未降到室溫前不要直接關掉設備電源,防止出現安全問題。

· 在進行化學氣相沉積后,石墨烯可從金屬催化劑轉移到另一個基片襯底上,此法可被廣泛應用制備二維材料。通過CVD法生長的石墨烯,表面平整度高且無殘渣。

· 此爐可以增加鍍SiC的石墨坩堝改造成RTE(快速熱蒸發)爐(可查看下方的圖片自己制備RTE)

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注意事項

· 當爐體溫度高于200℃時,請一定連接并運行水冷機,防止對設備造成損壞。

· 當爐體溫度高于900℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態。

· 爐管內氣壓不可高于0.02MPa。

· 爐管不建議正壓使用,對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。

可選配件

· 紅外燈管為可更換的(圖1),如有需要請聯系我們的銷售人員。

· 樣品架可選:3"O.D的石墨襯底替代AlN陶瓷片。(圖2)

· 可選:將含坩堝蓋蓋規格為87 O.D×71 I.D×12 H mm的石墨坩堝設計三個坩堝架,則可被改造成一個RTE,CSS或HPCVD爐,另外石墨坩堝表面涂有SiC涂層。(圖3)

· 多種供氣系統可選。(圖4)

· 建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。(請點擊這里學習如何安裝減壓閥)(圖5)

· 可選購壓力控制模塊來監控并保持工作腔室壓力穩定。(圖6)


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圖1                          圖2                             圖3


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圖4                            圖5                             圖6

伸縮式波紋管推拉架 (選配)

· 可改造波紋管推拉式伸縮架,樣品架可在內部伸縮式波紋管中滑動,實現在真空或受控氣氛下實現快速加熱或冷卻。


OTF1100IRII2.jpg


PC控制(選配)

· 請在購買爐子前,準備一臺電腦。

· 可選購MTS-02?控制軟件,可在電腦上顯示和設定壓力和溫度程序,以達到遠程控制。

· 購買帶有PC控制的加熱爐,如有疑問請聯系我們的銷售人員。


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水冷機(選配)

· 可選購水冷機降低法蘭總成溫度,避免高溫密封硅膠圈融化。


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真空配件(選配)

· 真空可選配件包括真空泵,波紋管和手動擋板閥。


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· 對于易損耗件高溫硅膠O型密封圈除了標配數量外可進行額外訂購。



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· 機械真空計(作為設備標配),范圍從-0.1到0.15Mpa。

· 可選配防腐型數顯真空表,測量范圍為3.8×10E -5至1125 Torr之間。除了具有較高的精度和重復性及較短的響應時間外,該儀表還降低了由于氣體類型依賴性而造成的氣壓讀數錯誤從而導致的腔室爆炸風險。


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真空泵組(選配)

此設備也可以進行抽真空,配合本公司生產的真空泵組

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