| 設備名稱 | 粉末旋轉RF磁控濺射包覆爐 |
| 特點 | · 可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在腔體內翻滾，達到粉體表面均勻包覆； · 可抽真空、通氣氛 |
| 基本參數 | · 電源：AC 220V 50HZ · 功率：＜1500W |
| 射頻電源 | · 輸入電源：220V 3A · 輸出功率：0-300W · 輸出頻率：13.56 MHZ · 冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 · 尺寸：444（長）*410（寬）*128（高）
|
| 磁控濺射頭 | ·2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 ·靶材尺寸要求：φ50*（0.1-5）mm厚
·2英寸磁控濺射頭可承受最大射頻功率：300W ·2英寸磁控濺射頭可承受最大直流功率：500W |
| 靶材 | · 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對基片的損傷和基片溫升比較少 · 標配一塊銅靶，φ2″*3mm · 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度 |
| 濺射腔室 | · 濺射腔室為異形的連熔爐管，尺寸：φ130*700/φ180*300mm · 腔室可旋轉，轉速1-10rpm可調，速度通過前面板上的調速器調節，顯示屏顯示轉速 · 腔體兩端采用磁流體法蘭與不銹鋼密封法蘭通過快速連接的方式進行密封，法蘭兩端安裝有支撐架支撐磁流體法蘭。卸料時拆掉兩端磁流體法蘭，將爐體傾斜（由前面板的旋鈕控制），即可快速出料 · 左端法蘭上安裝了一個φ6.35的卡套接頭作為進氣口使用，一個不銹鋼針閥控制進氣的通斷；一個量程為-0.1-0.15MPa的機械壓力表用于觀察爐管內壓力；一個φ19mm的通孔用于通入濺射靶頭到腔室內部 · 右端法蘭上的一個φ8mm的寶塔嘴接頭作為出氣口使用，一個不銹鋼針閥控制出氣的通斷，一個KF25的接頭與真空系統相連；一個KF16的接口作為備用接口，可選配安裝數顯真空計； · 右端法蘭在腔體內的位置安裝了一個石英檔板，檔板上安裝了四個不銹鋼擋條用于攪拌打散物料，使其能充分濺射。
· 腔體頂部安裝了一個防護罩，以屏蔽等離子體，防護罩頂部有一個長寬為240mm的石英觀察窗口，可以觀察物料濺射情況。 |
| 真空系統（選配） | · 型號：VRD-8 · 抽氣速率：2.2 L/S · 電機功率：370 W · 極限壓強：5×10-1Pa（不帶負載） · 實際壓強：≤5 Pa（冷態下機械泵抽20分鐘） · 如果想要獲得更高的真空度（10-5toor or better）可選購國產或進口高真空機組
|
| 水冷設備（選配） | · 型號：KJ-5000 · 工作電流：1.4-2.1A · 制冷量：2361Btu/h · 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高） · 水箱容量：6L · 水流速率：16L/min
|
| 設備外形尺寸 | 1500mm（L）*1000mm（W）*1500mm（H）防護罩打開時的尺寸 |
| 重量 | 約100kg |
| 保質期 | 1年（不包密封圈等損耗件） |
| 注意事項 | · 腔室內氣壓不可高于0.02MPa（相對氣壓）； · 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向石英管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，為了確保安全，建議使用壓力低于0.02MPa，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全； · 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等） · 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體，如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體，請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題，本公司概不負責。 |
查看誠信檔案
皖公網安備 34012302000974號
